Çin’in ilk 28 nm litografi aracı bu yıl bitmeden teslim edilecek!

SMEE için SSA/800-10W tarayıcısı bir atılım çünkü şirketin bugün sahip olduğu en gelişmiş tarayıcı yalnızca 90 nm ve daha kalın üretim işlemlerini gerçekleştirebiliyor. 28 nm kapasiteli bir litografi aracı, zamanla Çinli çip üreticilerinin bir dizi olgun teknoloji için yerli litografi ekipmanına güvenmelerini sağlayacak.

Yapılan hamle, Çin’in yarı iletken kendi kendine yeterliliğini sağlama ve yabancı teknolojiye bağımlılığını azaltma yönündeki daha geniş hedefinin bir parçası. Ancak SMEE’nin bu tarayıcıyı büyük miktarlarda üretip üretemeyeceği ve bu tür tarayıcıları ASML, Canon ve Nikon makinelerinin yerini alacak şekilde ne zaman kullanıma sunabileceği sorusu hala devam ediyor.

ABD hükümetinin son ihracat düzenlemeleri, Çinli çip üreticilerinin 14nm/16nm boyutlarında düzlemsel olmayan transistör mantık çipleri, 127’den fazla aktif katmana sahip 3D NAND çipleri ve yarım adımlı DRAM IC’leri oluşturmak için gerekli araç ve teknolojilere erişmesini engelliyor. Bu sonbaharın başlarında Hollanda, Japonya ve Tayvan’dan gelen kısıtlamalar, SMIC ve YMTC gibi Çinli firmaları gelişmiş araçlardan daha da izole etti. Bu sınırlamalar, başta SMIC’in 14nm/12nm ve 2. nesil 7nm’sinin yanı sıra YMTC’nin 128 katmanlı ve 232 katmanlı 3D NAND’ı olmak üzere en yeni üretim süreçlerini kullanarak çip üretme yeteneklerini engelliyor.

Sonuç olarak Çin, çip üreticilerinin 14nm gibi oldukça gelişmiş proses teknolojilerinde bile çip üretebilmesini sağlamak için gelişmiş yerli litografi araçlarına ihtiyaç duyuyor. Şimdilik, Shanghai Micro Electronics Equipment, SMIC’e veya bir çip araştırma enstitüsüne göndereceği 28 nm kapasiteli SSA/800-10W tarayıcısını ortaya çıkarma yolunda ilerliyor gibi görünüyor.

Bunu yaptıktan sonra çip üreticisinin yeni tarayıcıyı üretim akışına entegre etmesi biraz zaman alacak. Ancak bunu ancak SMEE’nin bu tür araçları yeterli sayıda üretebilmesi durumunda yapabilir.